| 基于Ga2O3的場效應(yīng)器件研究進(jìn)展 | |
| 所屬分類:技術(shù)論文 | |
| 上傳者:aetmagazine | |
| 文檔大小:660 K | |
| 標(biāo)簽: Ga2O3 寬禁帶半導(dǎo)體 場效應(yīng)晶體管 | |
| 所需積分:0分積分不夠怎么辦? | |
| 文檔介紹:氧化鎵(Ga2O3)作為第三代寬禁帶半導(dǎo)體材料,由于其超寬帶隙、高擊穿場強以及高巴利加優(yōu)值等優(yōu)點,廣泛應(yīng)用于大功率器件等領(lǐng)域,已成為近幾年來國內(nèi)外科研人員研究的熱點。主要介紹了Ga2O3材料的特性,總結(jié)了基于Ga2O3的場效應(yīng)晶體管(FET)的研究進(jìn)展,對Ga2O3功率器件的發(fā)展進(jìn)行了思考?xì)w納。 | |
| 現(xiàn)在下載 | |
| VIP會員,AET專家下載不扣分;重復(fù)下載不扣分,本人上傳資源不扣分。 | |
Copyright ? 2005-2024 華北計算機系統(tǒng)工程研究所版權(quán)所有 京ICP備10017138號-2