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德國(guó)默克稱DSA自組裝技術(shù)十年內(nèi)商用
發(fā)表于：2/5/2024 10:46:25 AM
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ASML：High-NA EUV光刻仍是未來(lái)最經(jīng)濟(jì)選擇
發(fā)表于：2/4/2024 11:09:27 AM
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我國(guó)推進(jìn)硅光子新賽道：無(wú)需EUV 光刻機(jī)和先進(jìn)制程
發(fā)表于：1/24/2024 11:15:33 AM
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EUV光刻，日本多路出擊
發(fā)表于：12/29/2023 12:39:33 PM
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三星計(jì)劃投資10萬(wàn)億韓元用于采購(gòu)ASML EUV光刻機(jī)
發(fā)表于：11/15/2023 2:41:54 PM
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逆天了！清華大學(xué)SSMB-EUV光源橫空出世，功率是EUV光刻機(jī)40倍！
發(fā)表于：9/14/2023 1:28:35 PM
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線邊緣粗糙度（LER）如何影響先進(jìn)節(jié)點(diǎn)上半導(dǎo)體的性能
發(fā)表于：6/12/2023 10:49:00 PM
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國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的突破：告別自嗨，務(wù)實(shí)為真
發(fā)表于：3/1/2023 9:49:00 AM
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ASML堵了EUV光刻機(jī)的路，但國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)有3大新方向
發(fā)表于：2/24/2023 6:49:25 AM
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國(guó)產(chǎn)芯片再獲新技術(shù)，無(wú)需EUV光刻機(jī)也能實(shí)現(xiàn)7納米
發(fā)表于：2/14/2023 11:25:00 PM
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EUV光刻機(jī)3大核心：2大來(lái)自德國(guó)，1大來(lái)自美國(guó)，ASML負(fù)責(zé)組裝
發(fā)表于：2/12/2023 2:58:49 PM
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EUV光刻機(jī)研發(fā)難在哪？ASML：數(shù)百家頂級(jí)供應(yīng)商 40年時(shí)間
發(fā)表于：1/31/2023 12:01:48 AM
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ASML：可繼續(xù)向中國(guó)銷售DUV光刻機(jī)
發(fā)表于：1/30/2023 11:27:09 PM
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10臺(tái)EUV光刻機(jī)，456億，外媒：臺(tái)積電頂不住了
發(fā)表于：1/3/2023 11:08:31 AM
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這家巨頭再拿下10臺(tái)EUV光刻機(jī)！
發(fā)表于：12/28/2022 2:20:30 PM
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三星電子計(jì)劃明年擴(kuò)大晶圓代工與DRAM產(chǎn)能，擬新設(shè)至少10臺(tái)EUV
發(fā)表于：12/26/2022 11:20:03 AM
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日本拋橄欖枝：邀請(qǐng)臺(tái)積電擴(kuò)建二廠并引入EUV
發(fā)表于：12/7/2022 11:15:22 PM
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采用6nm EUV先進(jìn)制程，紫光展銳發(fā)布T820處理器
發(fā)表于：12/3/2022 8:23:59 AM
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事關(guān)EUV光刻技術(shù)，中國(guó)廠商公布新專利
發(fā)表于：11/30/2022 6:58:47 AM
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ASML新EUV光刻機(jī)成本：趕上頂級(jí)戰(zhàn)機(jī)
發(fā)表于：11/30/2022 6:07:49 AM
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ASML新EUV光刻機(jī)驚人天價(jià)，年產(chǎn)能20臺(tái)左右
發(fā)表于：11/29/2022 6:43:31 AM
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美國(guó)芯片搬起石頭砸自己的腳，芯片行業(yè)雪崩，將面臨更嚴(yán)峻的考驗(yàn)
發(fā)表于：11/29/2022 5:59:44 AM
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張忠謀勸不住，劉德音推動(dòng)臺(tái)積電加速靠攏美國(guó)
發(fā)表于：11/16/2022 10:20:48 PM
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英特爾預(yù)計(jì)年底將首次使用EUV的Intel 4工藝量產(chǎn)
發(fā)表于：11/7/2022 8:18:36 PM
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俄羅斯計(jì)劃2028年造出7nm光刻機(jī)，不使用EUV技術(shù)
發(fā)表于：10/26/2022 9:06:42 PM
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ASML即將陷入困境，該對(duì)中國(guó)市場(chǎng)下定決心了
發(fā)表于：10/3/2022 7:19:41 PM
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ASML首臺(tái)High-NA EUV光刻機(jī)明年交付！
發(fā)表于：9/30/2022 11:32:18 PM
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被美國(guó)給打醒！俄羅斯想造光刻機(jī)，全新的技術(shù)，對(duì)標(biāo)了ASML的EUV
發(fā)表于：9/21/2022 6:00:00 AM
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我國(guó)首獲納米級(jí)光雕刻三維結(jié)構(gòu)：沒有EUV光刻機(jī)，一樣量產(chǎn)7nm芯片
發(fā)表于：9/17/2022 6:42:29 AM
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制造2nm芯片，除了EUV光刻機(jī)，還要微波爐？
發(fā)表于：9/13/2022 10:41:33 PM
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