9 月 24 日消息，韓媒 etnews 當(dāng)?shù)貢r(shí)間今日?qǐng)?bào)道稱，SK 海力士計(jì)劃在未來兩年內(nèi)新購置約 20 臺(tái) ASML 的 EUV 光刻系統(tǒng)。考慮到 SK 海力士目前持有約 20 臺(tái)用于研發(fā)和生產(chǎn)的 EUV 機(jī)臺(tái)，這意味著這家存儲(chǔ)巨頭對(duì)此類設(shè)備的保有規(guī)模將在兩年內(nèi)翻倍。
在 SK 海力士的兩大業(yè)務(wù)領(lǐng)域中，內(nèi)存端的 EUV 光刻工藝早已隨著 2021 年的 1a nm DRAM 實(shí)現(xiàn)商業(yè)化，EUV 的應(yīng)用規(guī)模也在隨著內(nèi)存世代演進(jìn)穩(wěn)步提升。
而由于 AI 發(fā)展對(duì)企業(yè)級(jí)高性能存儲(chǔ)尤其是 HBM 需求的提升，SK 海力士需要更多的 EUV 設(shè)備來擴(kuò)大先進(jìn) DRAM 內(nèi)存的生產(chǎn)規(guī)模。
除目前主要應(yīng)用的 Low-NA EUV 光刻機(jī)，SK 海力士本月早些時(shí)候還在存儲(chǔ)器業(yè)界引進(jìn)了首臺(tái)量產(chǎn)型 High-NA EUV 光刻機(jī)，即 ASML 的 TWINSCAN EXE:5200B，部署在韓國利川 M16 生產(chǎn)基地中。
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